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홈 > 한국산업기술융합학회(구. 산업기술교육훈련학회) > 산업기술연구논문지
논문 표지

전자선 리소그래피 공정 최적화를 통한 100nm 이하 초미세 패턴을 포함하는 포토 마스크 제작

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영문 초록

This study aims to develop an electronic beam lithography processing technique with the best pattern resolution among top-down machining methods and apply it to manufacture nanoscale structures. When ...

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목차

Ⅰ. 서 론
Ⅱ. 실험
Ⅲ. 실험결과 및 고찰
Ⅳ. 결 론
참고문헌